Formation of Almost Delta-Layered Nanoparticles in SiO_2 Thin Film on Si Substrate by Metal Negative-Ion Implantation
Formation of Almost Delta-Layered Nanoparticles in SiO_2 Thin Film on Si Substrate by Metal Negative-Ion Implantation
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金属负离子注入在Si衬底上SiO_2薄膜中形成近δ层状纳米粒子
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J.Ishikawa et al.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
G.H.Takaoka;M.Kawashita et al.;J.Ishikawa et al.
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影响因子：
4
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J. Ishikawa
DOI：
10.1016/0168-583x(87)90005-x
发表时间：
1987-06-01
影响因子：
1.3
作者：
BIERSACK, JP
通讯作者：
BIERSACK, JP
DOI：
10.1016/0168-583x(94)00444-7
发表时间：
1995
影响因子：
1.3
作者：
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通讯作者：
S. Sakai