Ultrapure homoepitaxial diamond films grown by chemical vapor deposition for quantum device application
Ultrapure homoepitaxial diamond films grown by chemical vapor deposition for quantum device application
复制标题
用于量子器件应用的化学气相沉积超纯同质外延金刚石薄膜
DOI:
--
复制
发表时间:
2020
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Tokuyuki Teraji
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
室田白馬;山本英明;竹室汰貴;門間信明;佐藤茂雄;平野愛弓;Tokuyuki Teraji
登录
查看更多内容
影响因子:
2.1
作者:
T. Teraji
通讯作者:
T. Teraji
影响因子:
4
作者:
J. Michl;T. Teraji;S. Zaiser;I. Jakobi;G. Waldherr;F. Dolde;P. Neumann;M. Doherty;N. Manson;J. Isoya;J. Wrachtrup
通讯作者:
J. Michl;T. Teraji;S. Zaiser;I. Jakobi;G. Waldherr;F. Dolde;P. Neumann;M. Doherty;N. Manson;J. Isoya;J. Wrachtrup
影响因子:
2.3
作者:
T. Teraji;T. Taniguchi;S. Koizumi;Y. Koide;J. Isoya
通讯作者:
J. Isoya
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
J. Pernot
通讯作者:
J. Pernot
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
J. Barjon;T. Tillocher;N. Habka;O. Brinza;J. Achard;R. Issaoui;F. Silva;C. Mer;P. Bergonzo
通讯作者:
P. Bergonzo