Step Coverage Quality of Cu Films by Supercritical Fluid Deposition Compared with Chemical Vapor Deposition
Step Coverage Quality of Cu Films by Supercritical Fluid Deposition Compared with Chemical Vapor Deposition
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超临界流体沉积与化学气相沉积铜膜的阶梯覆盖质量比较
DOI：
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发表时间：
2010
影响因子：
1.5
通讯作者：
Takeshi Momose
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kenichiro Hirata;Shunsuke Gomi;Yasuhiro Mashiko;Shigeki Nakagawa;Takeshi Momose
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使用超临界二氧化碳在深纳米沟槽/孔中沉积铜和钌薄膜
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics. 43
影响因子：
--
作者：
E.Kondoh;K.Shigama;E.Kondoh;E.Kondoh;E.Kondoh
通讯作者：
E.Kondoh
影响因子：
8.6
作者：
Adam O'neil;J. Watkins
通讯作者：
J. Watkins
影响因子：
2.6
作者：
Funazukuri, T;Nishimoto, N
通讯作者：
Nishimoto, N
超临界CO 2 流体中铜沉积的特性
影响因子：
2.3
作者：
E. Kondoh;H. Kato
通讯作者：
H. Kato
丙酮在超临界二氧化碳中的扩散
影响因子：
2.6
作者：
H. Nishiumi;M. Fujita;Kenichi Agou
通讯作者：
Kenichi Agou