Fabrication of Ir-Based Electrodes by Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using Ir Precursors
Fabrication of Ir-Based Electrodes by Metalorganic Chemical Vapor Deposition Using Ir Precursors
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使用 Ir 前驱体通过金属有机化学气相沉积法制备 Ir 基电极
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Fujisawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Eiji Higurashi;Yuichiro Tokuda;Masatake Akaike;and Tadatomo Suga;清水 勝;M.Shimizu;H.Fujisawa et al.;清水 勝;H.Fujisawa;H.Fujisawa
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使用 PbTiO3 缓冲层控制 Pb(Zr, Ti)O3 薄膜的取向
DOI：
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发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Shimizu;M. Sugiyama;Hironori Fujisawa Hironori Fujisawa;Tadashi Shiosaki Tadashi Shiosaki
通讯作者：
Tadashi Shiosaki Tadashi Shiosaki
金属有机化学气相沉积法低温沉积SrRuO3薄膜
影响因子：
1.5
作者：
N. Okuda;K. Saito;H. Funakubo
通讯作者：
H. Funakubo
金属有机化学气相沉积法在各种电极材料上制备Pb(Zr,Ti)O3薄膜的阶梯覆盖特性
影响因子：
1.5
作者：
M. Shimizu;S. Hyodo;H. Fujisawa;Hirohiko Niu Shiosaki
通讯作者：
Hirohiko Niu Shiosaki
利用 NO2 光增强金属有机化学气相沉积法生长 Pb(Zr, Ti)O3 薄膜
影响因子：
1.5
作者：
M. Shimizu;T. Katayama;Masataka Sugiyama Masataka Sugiyama;Tadashi Shiosaki Tadashi Shiosaki
通讯作者：
Tadashi Shiosaki Tadashi Shiosaki
Ru 的化学气相沉积及其在用于未来动态随机存取存储器的 (Ba,Sr)TiO3 电容器中的应用
DOI：
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发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Aoyama;M. Kiyotoshi;S. Yamazaki;KazuhiroEguchi KazuhiroEguchi
通讯作者：
KazuhiroEguchi KazuhiroEguchi