Laser ablation of silicon in neon gas ; study of excitation mechanism of neon neutrals by ablated silicon ions
Laser ablation of silicon in neon gas ; study of excitation mechanism of neon neutrals by ablated silicon ions
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在氖气中激光烧蚀硅；
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
横山淳
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
佐伯盛久;平田紘一;作花哲夫;大場弘則;横山淳
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氖气中的二体和三体离子电子复合率系数
DOI：
10.1071/ph950503
发表时间：
1995
期刊：
Australian Journal of Physics
影响因子：
--
作者：
R. Bhave;R. Cooper
通讯作者：
R. Cooper
影响因子：
3.2
作者：
N. A. Asadullayev;N. Brandt;S. Chudinov;S. Kozlov;I. Ciric
通讯作者：
I. Ciric
影响因子：
2.9
作者：
R. Isler;L. E. Murray
通讯作者：
L. E. Murray
氮化硅薄膜的激光反应烧蚀沉积
DOI：
10.1007/bf01538403
发表时间：
1995
期刊：
Applied Physics A
影响因子：
--
作者：
M. D. Giorgi;G. Leggieri;A. Luches;M. Martino;A. Perrone;G. Majni;P. Mengucci;J. Zemek;I. Mihăilescu
通讯作者：
I. Mihăilescu
氙气中激光烧蚀硅颗粒的时间分辨 X 射线吸收光谱
影响因子：
1.5
作者：
Tetsuya Makimura Tetsuya Makimura;Tamaki Sakuramoto Tamaki Sakuramoto;Kouichi Murakami Kouichi Murakami
通讯作者：
Kouichi Murakami Kouichi Murakami