Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography
Dynamics of radical ions of fluorinated polymer for Extreme Ultraviolet (EUV) lithography
复制标题
用于极紫外 (EUV) 光刻的氟化聚合物自由基离子动力学
DOI：
10.1117/12.2193060
复制
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K. Umegaki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
N. Nomura;K. Okamoto;H. Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;K. Umegaki
为了实现用于半导体器件的大规模生产的极紫外（EUV）光刻，增强化学放大抗蚀剂的性能仍然是重要的问题。在EUV抗蚀剂中，在EUV光的照射之后发生辐射化学反应。暴露于电离辐射后极紫外光致抗蚀剂化学中间体的动力学对于理解新的抗蚀剂设计非常重要。氟化抗蚀剂已经被开发用于ArF、F2和EUV光刻。氟化聚合物对EUV光的吸收率高，因此能有效地提高抗蚀剂的灵敏度。然而，在抗蚀剂中的辐射化学反应上的辐射效应尚未被详细阐明。在这项研究中，我们研究了自由基离子的氟化聚合物（FPs）的动力学脉冲辐解方法和量子化学计算，以澄清EUV光刻的反应机理。
To realize extreme ultraviolet (EUV) lithography for mass production of semiconductor devices, enhancements of performance of chemically amplified resist have been still important issue. In EUV resist, radiation chemical reactions occur after irradiations of the EUV light. Dynamics of chemical intermediates of EUV resist after exposure to the ionizing radiations is important for understanding new resist design. Fluorinated resists have been developed for ArF, F2, and EUV lithography. Fluorinated polymers are effective to enhance the sensitivity of the EUV resist because F atom has higher absorptivity of EUV photons. However, the fluorination effect on the radiation chemical reactions in the resist has not been clarified in detail. In this study, we investigated the dynamics of radical ions of fluorinated polymers (FPs) by pulse radiolysis method and quantum chemical calculations to clarify the reaction mechanism for EUV lithography.
登录
查看更多内容
用于极紫外光抗蚀剂的氟化聚合物的辐射化学
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
Naoya Nomura;Kazumasa Okamoto;Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Ryoko Fujiyoshi;Kikuo Umegaki,
通讯作者：
Kikuo Umegaki,
EUV抗蚀剂用氟化聚合物的辐射化学研究
影响因子：
1.5
作者：
N. Nomura;K. Okamoto;Hiroki Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;K. Umegaki
通讯作者：
K. Umegaki
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
Journal of Vacuum Science ＆. Technology B. 24
影响因子：
--
作者：
Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Kazumasa Okamoto;Akinori Saeki;Seiichi Tagawa;Tomoyuki Ando;Mitsuru Sato;Hiroji Komano
通讯作者：
Hiroji Komano
影响因子：
2.9
作者：
K. Okamoto;T. Kozawa;Y. Yoshida;S. Tagawa
通讯作者：
S. Tagawa
DOI：
10.1007/b14099
发表时间：
2005
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Hiroshi Ito;J. Marty;Monique Mauzak
通讯作者：
Monique Mauzak