Study on radiation chemistry of fluorinated polymers for EUV resist
Study on radiation chemistry of fluorinated polymers for EUV resist
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EUV抗蚀剂用氟化聚合物的辐射化学研究
DOI：
10.7567/jjap.54.06fe03
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发表时间：
2015
影响因子：
1.5
通讯作者：
K. Umegaki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
N. Nomura;K. Okamoto;Hiroki Yamamoto;T. Kozawa;R. Fujiyoshi;K. Umegaki
化学放大抗蚀剂的光刻是用于EUV光刻的有效方法。然而，已经提出化学放大型抗蚀剂的基础聚合物的交联诱导基础聚合物的电子清除反应并降低酸产率。在这项研究中，我们澄清了瞬态物种的形成和氟化聚合物暴露于电离辐射后的酸产量。含羟基氟聚合物的酸产率低于聚4-羟基苯乙烯（PHS）。氟化聚合物中较低的酸生成效率不仅是由于氟化聚合物与电子之间的反应，而且还由于氟化聚合物的自由基阳离子的较低的去质子化效率。
The fluorination of a chemically amplified resist is an effective method for use in EUV lithography. However, it has been suggested that the fluorination of the base polymer of the chemically amplified resist induces the electron scavenging reaction by the base polymer and reduces the acid yield. In this study, we clarified the formation of transient species and the acid yields of fluorinated polymers after exposure to the ionizing radiations. The acid yields of fluorinated polymers with hydroxyl groups were lower than that of poly(4-hydroxystyrene) (PHS). The lower acid generation efficiency in fluorinated polymers was due to not only the reaction between fluorinated polymers and electrons but also the lower deprotonation efficiency of the radical cation of the fluorinated polymer.
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用于极紫外光抗蚀剂的氟化聚合物的辐射化学
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
Naoya Nomura;Kazumasa Okamoto;Hiroki Yamamoto;Takahiro Kozawa;Ryoko Fujiyoshi;Kikuo Umegaki,
通讯作者：
Kikuo Umegaki,
用于极紫外光刻的化学放大抗蚀剂中吸收系数和产酸效率对产酸剂浓度的依赖性
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
R. Hirose;T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
用于后光学光刻的聚（4-羟基苯乙烯）基化学放大抗蚀剂的酸生成机制：聚（4-羟基苯乙烯）和聚（4-甲氧基苯乙烯）的酸产率和去质子化行为
DOI：
--
发表时间：
2006
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
A. Nakano;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
产酸剂与超热电子和热化电子反应的研究
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
--
作者：
K. Natsuda;T. Kozawa;A. Saeki;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
抗蚀剂模型化合物的自由基阳离子动力学
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
K. Okamoto;M. Tanaka;T. Kozawa;S. Tagawa
通讯作者：
S. Tagawa