Scanning Probe Lithography: State-of-the-Art and Future Perspectives.
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扫描探针光刻：最新技术和未来展望。
DOI：
10.3390/mi13020228
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发表时间：
2022-01-29
期刊：
影响因子：
3.4
通讯作者：
Luo X
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Fan P;Gao J;Mao H;Geng Y;Yan Y;Wang Y;Goel S;Luo X
高通量和高精度的纳米制造方法是需要不断增长的需求，纳米电子学，高密度数据存储设备，纳米光子学，量子计算，分子电路，和生物工程中用于细胞增殖应用的支架。扫描探针光刻（SPL）纳米加工技术是一种关键的纳米加工方法，具有很大的潜力，发展成为一个破坏性的原子级制造技术，以满足这些需求。通过这一及时的审查，我们希望提供一个概述的SPL制造机制和国家在这一领域的最先进的研究，并详细介绍了这种技术的应用和特点，包括热方面和化学方面的影响，以及电场和磁场的影响，在管理机制的功能化尖端与基板相互作用在SPL。除此之外，审查还揭示了比较各种制造能力，吞吐量和可达到的分辨率。最后，该文件暗示的事实是，大多数的文献报道表明，SPL尚未实现其全部的商业潜力，目前主要是一个基于实验室的纳米纤维技术用于原型的纳米结构和纳米器件。
High-throughput and high-accuracy nanofabrication methods are required for the ever-increasing demand for nanoelectronics, high-density data storage devices, nanophotonics, quantum computing, molecular circuitry, and scaffolds in bioengineering used for cell proliferation applications. The scanning probe lithography (SPL) nanofabrication technique is a critical nanofabrication method with great potential to evolve into a disruptive atomic-scale fabrication technology to meet these demands. Through this timely review, we aspire to provide an overview of the SPL fabrication mechanism and the state-the-art research in this area, and detail the applications and characteristics of this technique, including the effects of thermal aspects and chemical aspects, and the influence of electric and magnetic fields in governing the mechanics of the functionalized tip interacting with the substrate during SPL. Alongside this, the review also sheds light on comparing various fabrication capabilities, throughput, and attainable resolution. Finally, the paper alludes to the fact that a majority of the reported literature suggests that SPL has yet to achieve its full commercial potential and is currently largely a laboratory-based nanofabrication technique used for prototyping of nanostructures and nanodevices.
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通讯作者：
Soloway, Paul D.
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Ryu Cho YK;Rawlings CD;Wolf H;Spieser M;Bisig S;Reidt S;Sousa M;Khanal SR;Jacobs TDB;Knoll AW
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