Impact of rapid thermal annealing on structural and electrical properties of ZnO thin films grown atomic layer deposition on GaAs substrates
Impact of rapid thermal annealing on structural and electrical properties of ZnO thin films grown atomic layer deposition on GaAs substrates
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快速热退火对 GaAs 衬底上原子层沉积 ZnO 薄膜结构和电学性能的影响
DOI：
10.1016/j.vacuum.2013.11.004
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发表时间：
2014-05
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
Zhang, David Wei
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhang, Yuan;Lu, Hong-Liang;Geng, Yang;Sun, Qing-Qing;Ding, Shi-Jin;Zhang, David Wei
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影响因子：
4
作者：
Dunlop, L.;Kursumovic, A.;MacManus-Driscoll, J. L.
通讯作者：
MacManus-Driscoll, J. L.
影响因子：
4
作者：
Tae-Young Park;Yong‐Seok Choi;Sang-Mook Kim;G. Jung;Seong-Ju Park;B. Kwon;Yong‐Hoon Cho
通讯作者：
Tae-Young Park;Yong‐Seok Choi;Sang-Mook Kim;G. Jung;Seong-Ju Park;B. Kwon;Yong‐Hoon Cho
影响因子：
8.6
作者：
Van de Walle, CG
通讯作者：
Van de Walle, CG
影响因子：
3.2
作者：
M. Ryu;S. Lee;M. Jang;G. Panin;T. Kang
通讯作者：
M. Ryu;S. Lee;M. Jang;G. Panin;T. Kang
影响因子：
4
作者：
G. Du;Yongguo Cui;Xiaochuan Xia;Xiangping Li;Huichao Zhu;Baolin Zhang;Yuantao Zhang;Yan Ma
通讯作者：
G. Du;Yongguo Cui;Xiaochuan Xia;Xiangping Li;Huichao Zhu;Baolin Zhang;Yuantao Zhang;Yan Ma