Application of three-dimensionally area-selective atomic layer deposition for selectively coating the vertical surfaces of standing nanopillars.
Application of three-dimensionally area-selective atomic layer deposition for selectively coating the vertical surfaces of standing nanopillars.
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应用三维区域选择性原子层沉积选择性涂覆直立纳米柱的垂直表面
DOI：
10.1038/srep04458
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发表时间：
2014-03-25
影响因子：
4.6
通讯作者：
Dai N
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Dong W;Zhang K;Zhang Y;Wei T;Sun Y;Chen X;Dai N
我们描述了一种利用区域选择性原子层沉积（ALD）对直立纳米柱的垂直表面进行选择性涂层的策略。疏水自组装单层（SAMs）被用来选择性地抑制氧化物在修饰水平区域的涂层，以确保只有垂直站立的纳米棒的垂直表面使用ALD工艺被涂层。这种方法可以通过在垂直表面沉积氧化层的简单过程来制造垂直纳米器件，并且也可以应用于其他直立结构的区域选择性表面钝化。
We describe a strategy for selectively coating the vertical surfaces of standing nanopillars using area-selective atomic layer deposition (ALD). Hydrophobic self-assembled monolayers (SAMs) are utilised to selectively inhibit the coating of oxides on the modified horizontal regions to ensure that only the vertical surfaces of vertical standing nanorods are coated using ALD processes. This method makes it possible to fabricate vertical nanodevices using a simple process of depositing oxide layer on a vertical surface, and can also be applied to the area-selective surface passivation of other standing structures.
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