Defect Passivation Etch-less Cleaning for Semiconductor Devices : Zero Emission Process
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半导体器件的缺陷钝化无蚀刻清洗:零排放工艺
DOI:
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发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
小林光
中科院分区:
文献类型:
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作者:
A.Miura;R.Tsukamoto;S.Yoshii;I.Yamashita;Y.Uraoka;T.Fuyuki;上野信雄;大藤弘明,竹内洋貴;佐藤大・山村正樹・鍋島達弥;小林光
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影响因子:
1.6
作者:
C. Kopas;J. Gonzales;Shengke Zhang;D. Queen;B. Wagner;M. Robinson;J. Huffman;N. Newman
通讯作者:
N. Newman
影响因子:
3.9
作者:
C. Ndoye;K. Tapily;M. Orlowski;H. Baumgart;D. Gu
通讯作者:
D. Gu
影响因子:
3.2
作者:
Khalil, M. S.;Stoutimore, M. J. A.;Osborn, K. D.
通讯作者:
Osborn, K. D.
DOI:
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发表时间:
1977
期刊:
影响因子:
--
作者:
M. Schickfus;S. Hunklinger
通讯作者:
S. Hunklinger
影响因子:
2.1
作者:
N. A. Afonin;V. Logacheva;Yu. S. Shramchenko;A. M. Khoviv
通讯作者:
A. M. Khoviv