Defect Passivation Etch-less Cleaning for Semiconductor Devices : Zero Emission Process

Defect Passivation Etch-less Cleaning for Semiconductor Devices : Zero Emission Process
复制标题

半导体器件的缺陷钝化无蚀刻清洗:零排放工艺

DOI:
--
复制
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
小林光
小林光
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
A.Miura;R.Tsukamoto;S.Yoshii;I.Yamashita;Y.Uraoka;T.Fuyuki;上野信雄;大藤弘明,竹内洋貴;佐藤大・山村正樹・鍋島達弥;小林光

文献摘要

参考文献

相似文献

单光子功率和低温下沉积的硅和锗薄膜电介质的微波损耗低
DOI: 10.1063/5.0041525
发表时间: 2020
期刊: AIP Advances
影响因子: 1.6
作者:
C. Kopas;J. Gonzales;Shengke Zhang;D. Queen;B. Wagner;M. Robinson;J. Huffman;N. Newman
通讯作者: N. Newman
DOI: 10.1149/1.3609845
发表时间: 2011
影响因子: 3.9
作者:
C. Ndoye;K. Tapily;M. Orlowski;H. Baumgart;D. Gu
通讯作者: D. Gu
DOI: 10.1063/1.3692073
发表时间: 2012-03-01
影响因子: 3.2
作者:
Khalil, M. S.;Stoutimore, M. J. A.;Osborn, K. D.
通讯作者: Osborn, K. D.
DOI: --
发表时间: 1977
期刊:
影响因子: --
作者:
M. Schickfus;S. Hunklinger
通讯作者: S. Hunklinger
DOI: 10.1134/s0036023611050020
发表时间: 2011
影响因子: 2.1
作者:
N. A. Afonin;V. Logacheva;Yu. S. Shramchenko;A. M. Khoviv
通讯作者: A. M. Khoviv