Growth and characterization of a-axis oriented ErBa_2Cu_3O_<7-δ> films using double buffer layers
Growth and characterization of a-axis oriented ErBa_2Cu_3O_<7-δ> films using double buffer layers
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使用双缓冲层a轴取向ErBa_2Cu_3O_<7-δ>薄膜的生长和表征
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S.Ohshima
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Y.Shingai;M.Mukaida;T.Ohazama;A.Ichinose;S.Horii;Y.Yoshida;K.Matsumoto;K.Koike;F.Hirose;A.Saito;S.Ohshima
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DOI：
10.1016/j.physc.2004.02.226
发表时间：
2004-10-01
影响因子：
1.7
作者：
Ohazama, T;Mukaida, M;Ohshima, S
通讯作者：
Ohshima, S
基底上 YBa2Cu3O7−δ 薄膜的选择性择优取向控制
影响因子：
1.7
作者：
Y. Shingai;M. Mukaida;K. Matsumoto;Y. Yoshida;A. Ichinose;S. Horii;A. Saito;S. Ohshima
通讯作者：
S. Ohshima
通过后退火提高 ErBa2Cu3Oy 薄膜的临界电流密度
影响因子：
1.5
作者：
S. Horii;A. Ichinose;M. Mukaida;K. Matsumoto;Tohru Ohazama;Y. Yoshida;J. Shimoyama;K. Kishio
通讯作者：
K. Kishio
a轴取向YBa2Cu3Ox薄膜的面内排列
影响因子：
4
作者：
M. Mukaida;S. Miyazawa
通讯作者：
S. Miyazawa