Formation of textured Al thin film on silicone rubber to obtain superhydrophobic property
Formation of textured Al thin film on silicone rubber to obtain superhydrophobic property
复制标题
在硅橡胶上形成织构化Al薄膜以获得超疏水性能
DOI：
10.1007/s42452-018-0142-4
复制
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
M. Okoshi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T. Yoshida;M. Okoshi;M. Okoshi;大越昌幸;M. Okoshi;野尻秀智，大越昌幸;M. Okoshi
利用193 nm ArF准分子激光诱导硅橡胶表面形成的周期性微溶胀结构，在硅橡胶表面形成具有超疏水特性的织构Al薄膜。通过扫描电子显微镜和原子力显微镜观察到，在真空蒸发过程中，仅在硅橡胶衬底上的Al薄膜发生了自动织构化，而在载玻片或硅树脂衬底上的Al薄膜发生了自动织构化。结果，在两种情况下，水在具有10 nm和30 nm厚的织构化Al薄膜的样品上的接触角估计为约162°，而没有Al的样品为约155°。此外，一个大的空气间隙显着形成之间的Al沉积的样品和水;一滴有色水被成功地限制在空气间隙中，它被释放到水中时，需要的地方。
Silicone rubber, which is widely used in electrical and biomedical applications, was modified into superhydrophobic property by the formation of a textured Al thin film on the periodic microswelling structure fabricated on silicone rubber by the 193 nm ArF excimer laser-induced photodissociation of silicone. The texturing of Al thin film occurred automatically during the vacuum evaporation only on the silicone rubber, compared with the cases of a slide glass or silicone resin substrate, which were observed by the scanning electron microscope and atomic force microscope. As a result, contact angle of water on the samples with 10- and 30-nm-thick, textured Al thin films was estimated to be approximately 162° in both cases, compared to the sample without Al of approximately 155°. Moreover, a large air gap was remarkably formed between the Al-deposited sample and water; a droplet of colored water was successfully confined in the air gap and it was released into the water when and where need.
登录
查看更多内容
193 nm ArF 准分子激光诱导光解在硅橡胶上制造微溶胀结构
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Yokoyama;T. Yoshida;N. Matsuki;M. Okoshi
通讯作者：
M. Okoshi
F2 激光在硅橡胶上制备 SiO2 驼峰
影响因子：
1.5
作者：
H. Takao;M. Okoshi;N. Inoue
通讯作者：
N. Inoue
使用 F2 激光选择性化学蚀刻对有机硅薄膜进行光化学改性
影响因子：
1.5
作者：
M. Okoshi;Takeshi Kimura;H. Takao;N. Inoue;T. Yamashita
通讯作者：
T. Yamashita
DOI：
10.1007/s00339-004-2850-4
发表时间：
2004-09-01
影响因子：
2.7
作者：
Takao, H;Okoshi, M;Inoue, N
通讯作者：
Inoue, N
影响因子：
6.7
作者：
Yasuyuki Tsuboi;Yosuke Furuhata;N. Kitamura
通讯作者：
Yasuyuki Tsuboi;Yosuke Furuhata;N. Kitamura