S.Shimomura: "Extremely flat interfaces in GaAs/AlGaAs quantum wells with high Al content (0.7) grown on GaAs (411)A substrates by molecular beam epitaxy" J.Cryst.Growth. 150. 409-414 (1995)
S.Shimomura: "Extremely flat interfaces in GaAs/AlGaAs quantum wells with high Al content (0.7) grown on GaAs (411)A substrates by molecular beam epitaxy" J.Cryst.Growth. 150. 409-414 (1995)
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S.Shimomura:“通过分子束外延在 GaAs (411)A 基板上生长的高 Al 含量 (0.7) 的 GaAs/AlGaAs 量子阱中的极其平坦的界面”J.Cryst.Growth。
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3.9
作者:
H. Morkoç;T. Drummond;W. Kopp;R. Fischer
通讯作者:
R. Fischer
DOI:
10.1116/1.583710
发表时间:
1987
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作者:
D. Bimberg;J. Christen;T. Fukunaga;H. Nakashima;D. Mars;Jeffrey N. Miller
通讯作者:
Jeffrey N. Miller
影响因子:
1.5
作者:
S. Shimomura;A. Wakejima;A. Adachi;Y. Okamoto;N. Sano;K. Murase;S. Hiyamizu
通讯作者:
S. Hiyamizu
DOI:
10.1143/jjap.22.1489
发表时间:
1983
期刊:
影响因子:
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作者:
L. Goldstein;Y. Horikoshi;S. Tarucha;H. Okamoto
通讯作者:
H. Okamoto
DOI:
10.1016/0039-6028(86)90386-9
发表时间:
1986
期刊:
影响因子:
--
作者:
Masaaki Tanaka;H. Sakaki;J. Yoshino;T. Furuta
通讯作者:
T. Furuta