Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous carbon molecular sieve membranes for gas separation
Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous carbon molecular sieve membranes for gas separation
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用于气体分离的非晶碳分子筛膜的等离子体增强化学气相沉积
DOI：
10.1039/c6ra09381g
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
3.9
通讯作者：
Toshinori Tsuru
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hiroki Nagasawa;Masakoto Kanezashi,Tomohisa Yoshioka;Toshinori Tsuru
采用等离子体增强化学气相沉积（PECVD）法在SiO2-ZrO 2/α-Al 2 O3纳米多孔基底上成功制备了非晶碳膜。PECVD衍生的无定形碳膜表现出分子筛性质，在25 °C下分别对He/N2和He/SF6显示出23和1750的理想选择性。该膜即使在高达200 °C的高温下也保持高选择性，表明等离子体沉积的无定形碳层具有相当大的稳定性。
Amorphous carbon membranes were successfully synthesized onto a SiO2–ZrO2/α-Al2O3 nanoporous substrate via plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) at room temperature. PECVD-derived amorphous carbon membranes exhibited molecular sieving properties, showing ideal selectivities of 23 and 1750 for He/N2 and He/SF6, respectively, at 25 °C. The membrane maintained high selectivity even at high temperatures as high as 200 °C, indicating considerable stability of the plasma-deposited amorphous carbon layer.
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