Laboratory setup for extreme ultraviolet coherence tomography driven by a high-harmonic source.
Laboratory setup for extreme ultraviolet coherence tomography driven by a high-harmonic source.
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高谐波源驱动的极紫外相干断层扫描实验室装置
DOI：
10.1063/1.5102129
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
C. Rödel
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
J. Nathanael;M. Wünsche;S. Fuchs;T. Weber;J. J. Abel;J. Reinhard;F. Wiesner;U. Hübner;S. J. Skruszewicz;G. G. Paulus;C. Rödel
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针对谐波光谱和 XUV 光束分析而优化的高分辨率极紫外光谱仪系统
DOI：
10.1063/1.5054116
发表时间：
2019
期刊：
The Review of scientific instruments
影响因子：
--
作者：
M. Wünsche;S. Fuchs;T. Weber;J. Nathanael;J. J. Abel;J. Reinhard;F. Wiesner;U. Hübner;S. J. Skruszewicz;G. G. Paulus;C. Rödel
通讯作者：
C. Rödel
使用 Xradia MicroXCT 显微镜对 ICF 元件进行定量尺寸测量
DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Huang;S. Eddinger;M. Schoff
通讯作者：
M. Schoff
使用 25fs 激光脉冲产生 2.7nm 相干 X 射线
DOI：
--
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Rundquist;Z. Chang;Haiwen Wang;I. Christov;H. Kapteyn;M. Murnane
通讯作者：
M. Murnane
AIMS EUV：EUV 掩模的光化航空图像审查平台
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
D. Hellweg;J. Ruoff;A. Herkommer;Joachim Stühler;Thomas Ihl;H. Feldmann;Michael Ringel;U. Strößner;S. Perlitz;W. Harnisch
通讯作者：
W. Harnisch
极紫外范围内 Si/Mo 薄膜叠层的光谱表征。
影响因子：
3.6
作者：
Yen;Yin;I;Sheng
通讯作者：
Sheng