Generating Nanoscopic Patterns in Conductivity within a Poly(3-hexylthiophene) Crystal via Bias-Controlled Scanning Probe Nanolithography
Generating Nanoscopic Patterns in Conductivity within a Poly(3-hexylthiophene) Crystal via Bias-Controlled Scanning Probe Nanolithography
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通过偏置控制扫描探针纳米光刻在聚（3-己基噻吩）晶体内生成纳米级电导率图案
DOI：
10.1021/acs.macromol.8b01465
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发表时间：
2018-09
期刊：
影响因子：
5.5
通讯作者：
Reiter Guenter
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang Binghua;Zhang Bin;Shen Changyu;Chen Jingbo;Reiter Guenter
在纳米尺度上对半导体聚合物表面的电子性质进行图案化对其在纳米光子学和纳米电子学中的应用具有重大影响。令人惊讶的是，很少有人注意到采用从晶体到熔体的相变和共轭聚合物晶体的热活化氧化的方法，两者都伴随着电导率的急剧变化。在这里，我们提出了一个新的概念，基于偏置控制的扫描探针光刻（SPL），它允许局部氧化的聚（3-己基噻吩）（P3 HT）晶体，并使按需形成的纳米级，不导电的结构，而没有明显的变化的地形。该方法依赖于焦耳加热引起的局部熔化和氧化的P3 HT，导致在纳米级的非导电结构。除了局部关闭电导率之外，该方法甚至允许通过调整所施加的偏压来调谐电导率。因此，我们可以生成具有n的模式...
Patterning the electronic properties of semiconducting polymers on surfaces at the nanometer scale has a significant impact on their application in nanophotonics and nanoelectronics. Surprisingly, little attention has been paid to methods employing the phase transition from crystal to melt and thermally activated oxidation of conjugated polymer crystals, both accompanied by dramatic changes in electrical conductivity. Here, we propose a novel concept based on bias-controlled scanning probe lithography (SPL) which permits localized oxidation of poly(3-hexylthiophene) (P3HT) crystals and enables the on-demand formation of nanoscale, nonconductive structures without visible changes in topography. The approach relies on Joule heating induced local melting and oxidation of P3HT, resulting in nanoscopic nonconductive structures. Besides locally switching off electrical conductivity, this approach even allows to tune the electrical conductivity by adjusting the applied bias. Thus, we can generate patterns with n...
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影响因子：
9.5
作者：
Zimmermann ST;Balkenende DWR;Lavrenova A;Weder C;Brugger J
通讯作者：
Brugger J
影响因子：
--
作者：
K. Rahimi;I. Botiz;N. Stingelin;N. Kayunkid;M. Sommer;F. Koch;H. Nguyen;O. Coulembier;P. Dubois;M. Brinkmann;G. Reiter
通讯作者：
K. Rahimi;I. Botiz;N. Stingelin;N. Kayunkid;M. Sommer;F. Koch;H. Nguyen;O. Coulembier;P. Dubois;M. Brinkmann;G. Reiter
影响因子：
5.5
作者：
Patrick D. Homyak;Yao Liu;Jared D. Harris;Feng Liu;Kenneth R. Carter;Thomas P. Russell;E. Bryan Coughlin
通讯作者：
Patrick D. Homyak;Yao Liu;Jared D. Harris;Feng Liu;Kenneth R. Carter;Thomas P. Russell;E. Bryan Coughlin
DOI：
10.1147/rd.443.0323
发表时间：
2000-05
期刊：
IBM J. Res. Dev.
影响因子：
--
作者：
P. Vettiger;M. Despont;U. Drechsler;U. Dürig;W. Häberle;M. Lutwyche;H. Rothuizen;R. Stutz;R. Widmer;G. Binnig
通讯作者：
P. Vettiger;M. Despont;U. Drechsler;U. Dürig;W. Häberle;M. Lutwyche;H. Rothuizen;R. Stutz;R. Widmer;G. Binnig
影响因子：
16.6
作者：
M. Farina;Tengling Ye;G. Lanzani;A. di Donato;G. Venanzoni;D. Mencarelli;T. Pietrangelo;A. Morini;P. E. Keivanidis
通讯作者：
M. Farina;Tengling Ye;G. Lanzani;A. di Donato;G. Venanzoni;D. Mencarelli;T. Pietrangelo;A. Morini;P. E. Keivanidis