Evidence for lattice-polarization-enhanced field effects at the SrTiO3-based heterointerface
Evidence for lattice-polarization-enhanced field effects at the SrTiO3-based heterointerface
复制标题
SrTiO3 基异质界面晶格偏振增强场效应的证据
DOI：
10.1038/srep22418
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发表时间：
2016-03
影响因子：
4.6
通讯作者：
Jirong Sun
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Li;H.R.Zhang;Y.Lei;Y.Z.Chen;N. Pryds;Baogen Shen;Jirong Sun
静电门提供了一种强有力的方法来调整两个绝缘氧化物之间的二维电子液体的电导率。对于LaAlO_3/SrTiO_3（LAO/STO）界面，通过同时施加栅场和照明光，可以进一步增强STO的晶格极化效应。在这里，通过监测放电过程中删除的栅极场，我们给出了坚实的证据，这种晶格极化的发生在非晶LaAlO 3/SrTiO 3界面。此外，我们发现晶格极化伴随着STO的面外晶格的大膨胀。光激发通过加速场致晶格膨胀来影响极化过程。目前的工作表明，巨大的潜力的组合刺激探索涌现现象在复杂的氧化物界面。
Electrostatic gating provides a powerful approach to tune the conductivity of the two-dimensional electron liquid between two insulating oxides. For the LaAlO3/SrTiO3(LAO/STO) interface, such gating effect could be further enhanced by a strong lattice polarization of STO caused by simultaneous application of gate field and illumination light. Herein, by monitoring the discharging process upon removing the gate field, we give firm evidence for the occurrence of this lattice polarization at the amorphous-LaAlO3/SrTiO3interface. Moreover, we find that the lattice polarization is accompanied with a large expansion of the out-of-plane lattice of STO. Photo excitation affects the polarization process by accelerating the field-induced lattice expansion. The present work demonstrates the great potential of combined stimuli in exploring emergent phenomenon at complex oxide interfaces.
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影响因子：
64.8
作者：
Caviglia, A. D.;Gariglio, S.;Triscone, J. -M.
通讯作者：
Triscone, J. -M.
影响因子：
8.6
作者：
Caviglia, A. D.;Gabay, M.;Triscone, J. -M.
通讯作者：
Triscone, J. -M.
影响因子：
1.5
作者：
Tetsuya Yamamoto;Seiji Suzuki;K. Kawaguchi;Kazuhiko Takahashi
通讯作者：
Tetsuya Yamamoto;Seiji Suzuki;K. Kawaguchi;Kazuhiko Takahashi
影响因子：
56.9
作者：
Thiel, S.;Hammerl, G.;Mannhart, J.
通讯作者：
Mannhart, J.
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
C. Cen;S. Thiel;G. Hammerl;C. Schneider;K. Andersen;C. Hellberg;J. Mannhart;J. Levy
通讯作者：
C. Cen;S. Thiel;G. Hammerl;C. Schneider;K. Andersen;C. Hellberg;J. Mannhart;J. Levy