Validation of etching model of polypropylene layers exposed to argon plasmas
Validation of etching model of polypropylene layers exposed to argon plasmas
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暴露于氩等离子体的聚丙烯层蚀刻模型的验证
DOI：
10.1002/ppap.201900019
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发表时间：
2019
影响因子：
3.5
通讯作者：
von Keudell, Achim
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Corbella, Carles;Pranda, Adam;Portal, Sabine;de los Arcos, Teresa;Grundmeier, Guido;Oehrlein, Gottlieb S.;von Keudell, Achim
在感应耦合等离子体装置中用Ar低温等离子体对聚丙烯(PP)薄层进行了处理。用单波长椭偏仪对PP的刻蚀厚度进行了现场监测。等离子体作用下聚合物表面的椭偏模型由紫外光改性层、离子轰击致密的无定形碳层和中等粗糙度的有效介质近似层组成。将刻蚀行为与基于Ar离子束辐照实验的模型进行了比较。在这种方法中，表面过程被描述为刻蚀产率和交联率作为Ar离子和UV光子的入射通量和能量的函数。离子束模型与等离子体刻蚀结果吻合较好。
Thin layers of polypropylene (PP) have been treated by argon low‐temperature plasmas in an inductively coupled plasma setup. The etched thickness of PP was monitored in situ by means of single‐wavelength ellipsometry. The ellipsometric model of the polymer surface exposed to plasma consists of a UV‐modified layer, a dense amorphous carbon layer because of ion bombardment, and an effective medium approximation layer, which accounts for moderate surface roughness. The etching behavior has been compared to a model based on argon ion beam irradiation experiments. In this approach, surface processes are described in terms of etching yields and crosslinking probabilities as a function of incident fluxes and energies of Ar ions and UV photons. The ion beam model fits well with the plasma etching results.
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