Metal-Catalyst-Free Growth of Silica Nanowires and Carbon Nanotubes Using Ge Nanostructures
Metal-Catalyst-Free Growth of Silica Nanowires and Carbon Nanotubes Using Ge Nanostructures
复制标题
使用 Ge 纳米结构无金属催化剂生长二氧化硅纳米线和碳纳米管
DOI：
10.1143/jjap.50.04dn02
复制
发表时间：
2011
影响因子：
1.5
通讯作者：
Uchino T
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Uchino T
研究了使用Ge纳米结构在无金属催化剂的情况下生长二氧化硅纳米线和碳纳米管（CNT）。由 SiGe 岛、Ge 点和 Ge 纳米粒子生长出直径为 10-50 nm、长度≤ 1 µm 的二氧化硅纳米线。高分辨率透射电子显微镜 (HRTEM) 和能量色散 X 射线光谱 (EDS) 显示纳米线是由样品表面的氧化物纳米颗粒生长而成。我们提出生长机制是氧化物通过GeO 2 纳米结构的热扩散。直径为 0.6-2.5 nm、长度小于几微米的 CNT 也通过化学气相沉积法从不同类型的 Ge 纳米结构中生长出来。拉曼测量显示存在径向呼吸模式峰并且不存在无序诱导的 D 带，表明单壁碳纳米管具有低缺陷密度。 HRTEM 图像显示，CNT 也是由氧化物纳米颗粒生长而成，其中包含 GeO 2 和 SiO 2 的混合物。
The use of Ge nanostructures is investigated for the metal-catalyst-free growth of silica nanowires and carbon nanotubes (CNTs). Silica nanowires with diameters of 10–50 nm and lengths of≤ 1 µm were grown from SiGe islands, Ge dots, and Ge nanoparticles. High-resolution transmission electron microscopy (HRTEM) and energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) reveal that the nanowires grow from oxide nanoparticles on the sample surface. We propose that the growth mechanism is thermal diffusion of oxide through the GeO 2 nanostructures. CNTs with diameters 0.6–2.5 nm and lengths of less than a few µm were similarly grown by chemical vapor deposition from different types of Ge nanostructures. Raman measurements show the presence of radial breathing mode peaks and the absence of the disorder induced D-band, indicating single walled CNTs with a low defect density. HRTEM images reveal that the CNTs also grow from oxide nanoparticles, comprising a mixture of GeO 2 and SiO 2.
登录
查看更多内容
无催化剂通过 CuO 粉末碳热还原生长 SiO2 纳米线
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
作者：
Yu;Wen
通讯作者：
Wen
化学气相沉积SiO$_{f 2}$薄膜环结构的拉曼研究
DOI：
--
发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Nakano;N. Mura;Akihiko Tsuzumitani
通讯作者：
Akihiko Tsuzumitani
自组装Ge点的尺寸分布和电致发光
DOI：
--
发表时间：
2000
期刊：
影响因子：
--
作者：
L. Vescan;T. Stoica;O. Chretien;M. Goryll;E. Mateeva;A. Mück
通讯作者：
A. Mück
影响因子：
10.8
作者：
Takagi, Daisuke;Hibino, Hiroki;Homma, Yoshikazu
通讯作者：
Homma, Yoshikazu
中真空氧气流中碳化硅升华合成氧化硅纳米纤维
DOI：
--
发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Takikawa;M. Yatsuki;T. Sakakibara
通讯作者：
T. Sakakibara