Resonance Shear Measurement of Diacrylate Monomers Confined between Silica Surfaces for UV Nanoimprinting
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用于紫外纳米压印的二氧化硅表面之间限制的二丙烯酸酯单体的共振剪切测量
DOI：
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发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masaru Nakagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Shunya Ito;Motohiro Kasuya;Kazue Kurihara;Masaru Nakagawa
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用于大批量半导体制造的纳米压印系统开发以及叠层性能的现状
DOI：
10.1117/12.2258385
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
Yukio Takabayashi;Mitsuru Hiura;Hiroshi Morohoshi;Nobuhiro Kodachi;Tatsuya Hayashi;Atsushi Kimura;Takahiro Yoshida;K. Mishima;Y. Suzaki;Jin Choi
通讯作者：
Jin Choi
用于存储器件 HVM 的纳米压印光刻 (NIL) 研究
DOI：
10.1117/12.2257951
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
T. Kono;M. Hatano;H. Tokue;K. Kobayashi;Masato Suzuki;K. Fukuhara;M. Asano;T. Nakasugi;E. Choi;W. Jung
通讯作者：
W. Jung
改善纳米压印光刻大批量半导体制造的缺陷率和颗粒控制
DOI：
10.1117/12.2257647
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
T. Nakayama;M. Yonekawa;Y. Matsuoka;Hisanobu Azuma;Yukio Takabayashi;A. Aghili;M. Mizuno;Jin Choi;Chris E. Jones
通讯作者：
Chris E. Jones
影响因子：
3.9
作者：
Hozumi, A;Ushiyama, K;Takai, O
通讯作者：
Takai, O
用于半导体存储器应用的高通量纳米压印光刻
DOI：
10.1117/12.2260466
发表时间：
2017
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
Zhengmao Ye;Wei Zhang;N. Khusnatdinov;T. Stachowiak;J. W. Irving;Whitney Longsine;M. Traub;B. Fletcher;Weijun Liu
通讯作者：
Weijun Liu