Lifetime Calculations on Collector Optics from Laser Plasma Extreme Ultraviolet Sources with Minimum Mass
Lifetime Calculations on Collector Optics from Laser Plasma Extreme Ultraviolet Sources with Minimum Mass
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最小质量激光等离子体极紫外光源收集器光学器件的寿命计算
DOI：
10.1088/0256-307x/28/5/055201
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发表时间：
2011-05
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
王新兵
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
吴涛;王新兵
使用无碰撞等离子体膨胀到真空的自相似球对称流体模型获得离子通量及其动能谱。根据离子通量和能量分布，收集器的光学寿命是通过了解 CO2 和 Nd:YAG 脉冲激光产生的等离子体的传统 Mo/Si 多层涂层的溅射产率来估计的，该等离子基于最小质量锡滴靶，无需减少碎片。结果表明，就快离子碎片引起的对收集镜的溅射损伤而言，CO2激光器产生的等离子光源的波长比Nd:YAG激光器更适合极紫外光刻。
An ion flux and its kinetic energy spectrum are obtained using a self similar spherically symmetric fluid model of expansion of a collisionless plasma into vacuum. According to the ion flux and energy distribution, the collector optical lifetime is estimated by knowledge of the sputtering yield of conventional Mo/Si multilayer coatings for the CO2 and Nd:YAG pulsed-laser produced plasmas based on the minimum mass tin droplet target without debris mitigation. The results show that the longer wavelength of the CO2 laser produced plasma light source is more suitable for extreme ultraviolet lithography than Nd:YAG laser in respect of fast ion debris induced sputtering damage to the collector mirror.
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影响因子：
3.2
作者：
K. Gielissen;Y. Sidelnikov;D. Glushkov;W. Soer;V. Banine;van der J.J.A.M. Mullen
通讯作者：
K. Gielissen;Y. Sidelnikov;D. Glushkov;W. Soer;V. Banine;van der J.J.A.M. Mullen
影响因子：
4
作者：
Hiroki Tanaka;Y. Hashimoto;K. Tamaru;A. Takahashi;T. Okada
通讯作者：
Hiroki Tanaka;Y. Hashimoto;K. Tamaru;A. Takahashi;T. Okada
影响因子：
8.6
作者：
Mora, P
通讯作者：
Mora, P
影响因子：
2.2
作者：
Murakami, M;Basko, MM
通讯作者：
Basko, MM
影响因子：
3.2
作者：
S. Srivastava;K. Thompson;E. Antonsen;H. Qiu;J. B. Spencer;D. Papke;D. Ruzic
通讯作者：
S. Srivastava;K. Thompson;E. Antonsen;H. Qiu;J. B. Spencer;D. Papke;D. Ruzic