Electrical properties of Bi-implanted amorphous chalcogenide films

Electrical properties of Bi-implanted amorphous chalcogenide films
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双注入非晶硫属化物薄膜的电性能

DOI:
10.1016/j.tsf.2015.05.036
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
2.1
通讯作者:
Fedorenko Y
Fedorenko Y
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
Fedorenko Y

文献摘要

参考文献

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