Electrical properties of Bi-implanted amorphous chalcogenide films
Electrical properties of Bi-implanted amorphous chalcogenide films
复制标题
双注入非晶硫属化物薄膜的电性能
DOI:
10.1016/j.tsf.2015.05.036
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发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
2.1
通讯作者:
Fedorenko Y
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Fedorenko Y
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DOI:
--
发表时间:
1984
期刊:
影响因子:
--
作者:
B. Kobrin;V. Shantarovich;M. Mikhailov;E. Turkina
通讯作者:
E. Turkina
DOI:
--
发表时间:
1987
期刊:
影响因子:
--
作者:
M. Frumar;L. Tichy
通讯作者:
L. Tichy
DOI:
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发表时间:
1997
期刊:
影响因子:
--
作者:
R. Asal;H. Rutt
通讯作者:
H. Rutt
DOI:
--
发表时间:
1997
期刊:
影响因子:
--
作者:
B. Vaidhyanathan;S. Murugavel;S. Asokan;K. Rao
通讯作者:
K. Rao
影响因子:
8.6
作者:
ELLIOTT, SR;STEEL, AT
通讯作者:
STEEL, AT