Polymer microstructure generated by laser stereo-lithography and its transfer to silicon substrate using reactive ion etching
Polymer microstructure generated by laser stereo-lithography and its transfer to silicon substrate using reactive ion etching
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激光立体光刻生成的聚合物微结构及其使用反应离子蚀刻转移到硅基底上
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Yoshiaki Kanamori
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yoshiaki Kanamori
深度反应离子蚀刻的里程碑
DOI：
10.1109/sensor.2005.1497272
发表时间：
2005
期刊：
The 13th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems, 2005. Digest of Technical Papers. TRANSDUCERS '05.
影响因子：
--
作者：
F. Laermer;A. Urban
通讯作者：
A. Urban
用于微流体和微传感器封装的硅立体光刻技术
DOI：
10.1007/s00542-002-0254-y
发表时间：
2003
期刊：
Microsystem Technologies
影响因子：
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作者：
L. A. Tse;P. Hesketh;D. Rosen;J. Gole
通讯作者：
J. Gole
基于灰度掩模的非球面折射微透镜阵列的制作和建模
DOI：
10.1299/jsmec.46.1598
发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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作者：
Gou;Shuh;Chi
通讯作者：
Chi