Modification of Si-O-Si Structure in Porous SiOCH Films by O2 plasma
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O2等离子体对多孔SiOCH薄膜中Si-O-Si结构的改性
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
山本洋
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Kawasaki;K.;M.Kiku;Keigo Nakamura;山本洋
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