Approaching Rapid, High‐Resolution, Large‐Area Patterning of Semiconducting Polymers Using Projection Photothermal Lithography
Approaching Rapid, High‐Resolution, Large‐Area Patterning of Semiconducting Polymers Using Projection Photothermal Lithography
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使用投影光热光刻技术实现半导体聚合物的快速、高分辨率、大面积图案化
DOI：
10.1002/admt.202100812
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发表时间：
2021
影响因子：
6.8
通讯作者：
Moulé, Adam J.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Murrey, Tucker L.;Mulvey, Justin T.;Jha, Meghna;Fergerson, Alice S.;Vong, Daniel;Soika, Andreas;Lorek, Jakob;Dolan, Sarah E.;Tiffany‐Appleton, Daniel R.;Moulé, Adam J.
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影响因子：
6.2
作者：
Bedolla-Valdez, Zaira I.;Xiao, Rui;Moule, Adam J.
通讯作者：
Moule, Adam J.
DOI：
--
发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Angelopoulos;J. Shaw;K. Lee;Wu;M. Lecorre;M. Tissier
通讯作者：
M. Tissier
150纳米一代光刻设备
DOI：
--
发表时间：
1999
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
N. Deguchi;S. Uzawa
通讯作者：
S. Uzawa
影响因子：
19
作者：
Na, Seok-In;Kim, Seok-Soon;Kim, Dong-Yu
通讯作者：
Kim, Dong-Yu
聚合物分级
DOI：
--
发表时间：
1994
期刊：
Springer Lab Manual
影响因子：
--
作者：
Dr. rer. nat. Frieder Francuskiewicz
通讯作者：
Dr. rer. nat. Frieder Francuskiewicz