Microwave plasma-assisted chemical vapor deposition of microcrystalline diamond films via graphite etching under different hydrogen flow rates
Microwave plasma-assisted chemical vapor deposition of microcrystalline diamond films via graphite etching under different hydrogen flow rates
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不同氢气流量下石墨蚀刻微波等离子体辅助化学气相沉积微晶金刚石薄膜
DOI：
10.1039/c9ce00120d
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发表时间：
2019-04
期刊：
影响因子：
3.1
通讯作者：
Zhu Jiaqi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yao Kaili;Dai Bing;Tan Xiaojun;Yang Lei;Zhao Jiwen;Ralchenko Victor;Shu Guoyang;Liu Kang;Han Jiecai;Zhu Jiaqi
研究了以石墨为碳源，在不同氢气流量下刻蚀生长微晶金刚石薄膜的工艺。
The growth of microcrystalline diamond films with different hydrogen flow rates via etching graphite as the carbon source was studied.
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影响因子：
1.8
作者：
T. Hirai;Shinji Hiraga;S. Shimada;Y. Takagi;Y. Suda;O. Shimizu;Hitoshi Kino
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T. Hirai;Shinji Hiraga;S. Shimada;Y. Takagi;Y. Suda;O. Shimizu;Hitoshi Kino
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作者：
F. Celii;D. White;A. Purdes
通讯作者：
F. Celii;D. White;A. Purdes
影响因子：
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作者：
Xiaona Lu;Qiaoqin Yang;C. Xiao;A. Hirose
通讯作者：
Xiaona Lu;Qiaoqin Yang;C. Xiao;A. Hirose
影响因子：
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作者：
W. Chen;X. Lu;Qiaoqin Yang;C. Xiao;R. Sammynaiken;M. Jm;A. Hirose
通讯作者：
W. Chen;X. Lu;Qiaoqin Yang;C. Xiao;R. Sammynaiken;M. Jm;A. Hirose
影响因子：
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作者：
Lu, X.;Yang, Q.;Tiedje, T.
通讯作者：
Tiedje, T.