Chemical kinetics mechanism for chemical mechanical polishing diamond and its related hard-inert materials
Chemical kinetics mechanism for chemical mechanical polishing diamond and its related hard-inert materials
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化学机械抛光金刚石及其相关硬惰性材料的化学动力学机理
DOI：
10.1007/s00170-017-1336-4
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发表时间：
2018-03
影响因子：
3.4
通讯作者：
He Yan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yuan Zewei;Zheng Peng;Wen Quan;He Yan
硬惰性材料，如金刚石、碳化硅、氮化镓和蓝宝石，很难从半导体领域有效地要求的光滑和无损伤的表面获得。因此，本研究提出了一个化学动力学模型，以
Hard-inert materials such as diamond, silicon carbide, gallium nitride, and sapphire are difficult to obtain from the smooth and damage-free surfaces efficiently required by semiconductor field. Therefore, this study proposed a chemical kinetics model to
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金刚石晶体机械抛光中材料去除率各向异性的原子起源
DOI：
10.1016/j.carbon.2015.12.001
发表时间：
2016-04
期刊：
Carbon(IF 6.196/2014/JCR 2区)
影响因子：
--
作者：
Zong W J;Cheng X;Zhang J J
通讯作者：
Zhang J J
DOI：
10.4028/www.scientific.net/msf.505-507.1225
发表时间：
2006-01
期刊：
Materials Science Forum
影响因子：
--
作者：
H. Cheng;C.C. Chen
通讯作者：
H. Cheng;C.C. Chen
影响因子：
5.1
作者：
Su Jianxiu;Chen Xiqu;Du Jiaxi;Kang Renke
通讯作者：
Su Jianxiu;Chen Xiqu;Du Jiaxi;Kang Renke
影响因子：
4.1
作者：
A. Kubota;S. Motoyama;M. Touge
通讯作者：
A. Kubota;S. Motoyama;M. Touge
DOI：
10.1115/1.4024034
发表时间：
2013-08
影响因子：
4
作者：
Z. Yuan;Zhuji Jin;Youjun Zhang;Q. Wen
通讯作者：
Z. Yuan;Zhuji Jin;Youjun Zhang;Q. Wen