Switching behavior of cross contacting CPP-GMR structure fabricated by two-step ion milling technique

Switching behavior of cross contacting CPP-GMR structure fabricated by two-step ion milling technique
复制标题

两步离子铣削技术制造的交叉接触 CPP-GMR 结构的开关行为

DOI:
--
复制
发表时间:
2003
期刊:
Journal of Applied Physics 93・10
影响因子:
--
通讯作者:
H.Oishi et al.
H.Oishi et al.
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
F.Qin et al.;Y.Nozaki et al.;M.Zhang et al.;M.Zhang et al.;F.Qin et al.;Y.Nozaki et al.;F.qin et al.;M.Zhang et al.;F.Qin et al.;F.Qin et al.;M.Zhang et al.;M.Zhang et al.;F.Qin et al.;F.Qin et al.;F.Qin et al.;H.Oishi et al.;Y.Nozaki et al.;J.Kikuchi et al.;F.Qin et al.;F.Qin et al.;F.Qin et al.;H.Oishi et al.;Y.Nozaki et al.;J.Kikuchi et al.;F.Qin et al.;Y.Nozaki et al.;F.Qin et al.;Y.Nozaki et al.;K.Matsuyama et al.;Y.Nozaki et al.;H.Oishi et al.

文献摘要

参考文献

被引文献

相似文献

用于垂直于薄膜平面的薄膜电阻测量的新型接触技术
DOI: 10.1063/1.109730
发表时间: 1993
期刊:
影响因子: --
作者:
M. Gijs;J. Giesbers;S. Lenczowski;H. Janssen
通讯作者: H. Janssen
DOI: 10.1063/1.113507
发表时间: 1995
期刊:
影响因子: --
作者:
W. Vavra;S. Cheng;A. Fink;J. Krebs;G. A. Prinz
通讯作者: G. A. Prinz
DOI: 10.1103/physrevlett.70.3343
发表时间: 1993-05-24
影响因子: 8.6
作者:
GIJS, MAM;LENCZOWSKI, SKJ;GIESBERS, JB
通讯作者: GIESBERS, JB
纳米结构 Cu/Co 多层柱中电流引起的磁畴重新排列
DOI: 10.1063/1.125752
发表时间: 2000
影响因子: 4
作者:
J. Katine;F. Albert;R. Buhrman
通讯作者: R. Buhrman