Plasma emission controlled multi-target reactive sputtering for in-situ crystallized Pb(Zr,Ti)O3 thin films on 6″ Si-wafers
Plasma emission controlled multi-target reactive sputtering for in-situ crystallized Pb(Zr,Ti)O3 thin films on 6″ Si-wafers
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6 硅片上原位结晶 Pb(Zr,Ti)O3 薄膜的等离子体发射控制多靶反应溅射
DOI：
10.1016/j.tsf.2006.10.131
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
2.1
通讯作者：
V. Hofmann
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
V. S. Vidyarthi;W.-M. Lin;G. Suchaneck;G. Gerlach;C. Thiele;V. Hofmann
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通讯作者：
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通讯作者：
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