Fabrication of three-dimensional structures of resist by proton beam writing
Fabrication of three-dimensional structures of resist by proton beam writing
复制标题
质子束写入抗蚀剂三维结构的制备
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T.Kamiya
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Furuta;N.Uchiya;H.Nishikawa;J.Haga;T.Sato;M.Oikawa;Y.Ishii;T.Kamiya
登录
查看更多内容
用于微加工应用的深离子束光刻
DOI：
10.1117/12.280533
发表时间：
1997
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
S. V. Springham;T. Osipowicz;J. L. Sanchez;Sing Lee;F. Watt
通讯作者：
F. Watt
DOI：
10.1016/j.nimb.2005.01.043
发表时间：
2005-04
影响因子：
1.3
作者：
T. Sakai;M. Oikawa;T. Sato;T. Nagamine;H. Moon;K. Nakazato;Keij Suzuki
通讯作者：
T. Sakai;M. Oikawa;T. Sato;T. Nagamine;H. Moon;K. Nakazato;Keij Suzuki
影响因子：
4
作者：
Ansari, K;van Kan, JA;Watt, F
通讯作者：
Watt, F
质子束微加工：精密三维微结构的新工具
影响因子：
4.6
作者：
J. A. Kan;A. Bettiol;B. S. Wee;T. Sum;S. M. Tang;F. Watt
通讯作者：
F. Watt
用于纳米压印光刻的镍印模的质子束制造
DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
作者：
K. Ansari;P. Shao;J. A. Kan;A. Bettiol;F. Watt
通讯作者：
F. Watt