AFM Lithography for Fabrication of Magnetic Nanostructures and Devices
AFM Lithography for Fabrication of Magnetic Nanostructures and Devices
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用于制造磁性纳米结构和器件的 AFM 光刻
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
J.Shirakashi
中科院分区:
文献类型:
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作者:
Y.Takemura;J.Shirakashi
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DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
J.Magn.Magn.Mat. 272-276P2
影响因子:
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作者:
J.Shirakashi;Y.Takemura
通讯作者:
Y.Takemura
DOI:
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发表时间:
2004
期刊:
IEEE Trans.Mag. 40
影响因子:
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作者:
J.Shirakashi;Y.Takemura
通讯作者:
Y.Takemura
DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
J.Vac.Sci.& Technol. B23
影响因子:
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作者:
G.Watanabe;S.Koizumi;K.Watanabe;T.Yamada;Y.Takemura;J.Shirakashi
通讯作者:
J.Shirakashi
DOI:
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发表时间:
1997
期刊:
影响因子:
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作者:
K. Ono;H. Shimada;Y. Ootuka
通讯作者:
Y. Ootuka
影响因子:
3.5
作者:
Kuramochi, H;Pérez-Murano, F;Yokoyama, H
通讯作者:
Yokoyama, H