Magnetoresistance of Patterned NiFe Thin Films with Structures Modified by Atomic Force Microscope Nanolithography
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原子力显微镜纳米光刻结构修饰的图案化 NiFe 薄膜的磁阻
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
J.Shirakashi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
G.Watanabe;S.Koizumi;K.Watanabe;T.Yamada;Y.Takemura;J.Shirakashi
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