Flow behavior control in immersion lithography
Flow behavior control in immersion lithography
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浸没式光刻中的流动行为控制
DOI：
10.1016/j.flowmeasinst2016.07.008
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发表时间：
2017-03
影响因子：
2.2
通讯作者：
Chen Wenyu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Fu Xin;Huang Yao;Hu Liang;Xie Haibo;Chen Wenyu
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DOI：
10.1117/12.600492
发表时间：
2005-05
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
H. Nakano;H. Hata;Kazuhiro Takahashi;M. Arakawa;T. Chibana;T. Honda;Keiko Chiba;Sunao Mori
通讯作者：
H. Nakano;H. Hata;Kazuhiro Takahashi;M. Arakawa;T. Chibana;T. Honda;Keiko Chiba;Sunao Mori
影响因子：
2
作者：
Fu-Jye Liang;Lin-Hung Shiu;Chun-Kuang Chen;Li-Jui Chen;T. Gau;B. Lin
通讯作者：
Fu-Jye Liang;Lin-Hung Shiu;Chun-Kuang Chen;Li-Jui Chen;T. Gau;B. Lin
DOI：
10.1117/12.656441
发表时间：
2006-03
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
T. Tomita;T. Shimoaoki;M. Enomoto;Hideharu Kyoda;J. Kitano;Toshifumi Suganaga
通讯作者：
T. Tomita;T. Shimoaoki;M. Enomoto;Hideharu Kyoda;J. Kitano;Toshifumi Suganaga
影响因子：
2
作者：
V. Liberman;M. Rothschild;S. Palmacci;A. Grenville
通讯作者：
V. Liberman;M. Rothschild;S. Palmacci;A. Grenville
DOI：
10.5739/isfp.2008.847
发表时间：
2008
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
Wen-yu Chen;Xin Fu;Huayong Yang
通讯作者：
Wen-yu Chen;Xin Fu;Huayong Yang