Double-plasmon broadband response of engineered titanium silicon oxynitride
Double-plasmon broadband response of engineered titanium silicon oxynitride
复制标题
工程化钛硅氮氧化物的双等离子体宽带响应
DOI：
10.1364/ome.9.000878
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发表时间：
2019
影响因子：
2.8
通讯作者：
Dal Negro, L.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Britton, W. A.;Chen, Y.;Dal Negro, L.
DOI：
10.1116/1.576251
发表时间：
1989-05-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
作者：
HULTMAN, L;SUNDGREN, JE;GREENE, JE
通讯作者：
GREENE, JE
影响因子：
6.7
作者：
Chappe, Jean-Marie;Martin, Nicolas;Takadoum, Jamal
通讯作者：
Takadoum, Jamal
反应直流磁控溅射沉积氧化钛薄膜的相形成：氧分压和氮掺杂的影响
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Pandian;G. Natarajan;S. Rajagopalan;M. Kamruddin;A. Tyagi
通讯作者：
A. Tyagi