Chemical vapor deposition of hexagonal boron nitride thin films on a Si substrate
Chemical vapor deposition of hexagonal boron nitride thin films on a Si substrate
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Si 衬底上化学气相沉积六方氮化硼薄膜
DOI：
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发表时间：
2021
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H. Kominami
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kazuhiko Hara;T. Nakama;K. Matsushita;T. Watanabe;H. Kominami
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