Stitching interferometric metrology for steeply curved x-ray mirrors
Stitching interferometric metrology for steeply curved x-ray mirrors
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用于陡弯曲 X 射线镜的拼接干涉测量
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.;Yumoto;et. al.
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影响因子：
4
作者：
H. Mimura;H. Yumoto;S. Matsuyama;Y. Sano;K. Yamamura;Y. Mori;M. Yabashi;Y. Nishino;K. Tamasaku;T. Ishikawa;K. Yamauchi
通讯作者：
H. Mimura;H. Yumoto;S. Matsuyama;Y. Sano;K. Yamamura;Y. Mori;M. Yabashi;Y. Nishino;K. Tamasaku;T. Ishikawa;K. Yamauchi
影响因子：
1.6
作者：
Matsuyama, S.;Mimura, H.;Yamauchi, K.
通讯作者：
Yamauchi, K.
用于将硬 X 射线聚焦到尺寸小于 50 nm 的椭圆形镜的制造
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Review of Scientific Instruments 76
影响因子：
--
作者：
H.Yumoto
通讯作者：
H.Yumoto
影响因子：
1.9
作者：
H. D. Polster
通讯作者：
H. D. Polster
Zygo 干涉测量的最新进展
DOI：
10.1117/12.941758
发表时间：
1987
期刊：
Optics & Photonics
影响因子：
--
作者：
R. Smythe;J. Soobitsky;B. Truax
通讯作者：
B. Truax