Transfer efficiency in ballistic electron emission microscopy taking diffraction of emitted hot electrons into account
Transfer efficiency in ballistic electron emission microscopy taking diffraction of emitted hot electrons into account
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考虑发射热电子衍射的弹道电子发射显微镜的传输效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
N.Machida et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Katakura;K. Wada;A. Yamamoto;Z. Ogumi;片倉勝己;Keiju Matsui;久保田拓也,京兼純,平田憲司,沢田英夫;Keiju Matsui;久保田拓也,京兼純,平田憲司,沢田英夫;松井景樹;平田憲司,京兼純,久保田拓也,沢田英夫,池田壽文;平田憲司,京兼純,沢田英夫,池田壽文;N.Machida et al.
半导体埋入结构的 BEEM 成像和光谱
DOI：
10.1016/s0370-1573(00)00119-8
发表时间：
2001
期刊：
Physics Reports
影响因子：
--
作者：
V. Narayanamurti;M. Kozhevnikov
通讯作者：
M. Kozhevnikov
Au/Si 系统中电子弹性传播的量子力学分析：在弹道电子发射显微镜中的应用
影响因子：
3.7
作者：
K. Reuter;P. D. Andres;F. García;D. Šestović;F. Flores;K. Heinz
通讯作者：
K. Heinz
弹道电子发射显微镜（BEEM）：以纳米分辨率研究金属/半导体界面
DOI：
10.1016/0370-1573(94)00082-e
发表时间：
1995
期刊：
Physics Reports
影响因子：
--
作者：
M. Prietsch
通讯作者：
M. Prietsch