Fabrication of Nano-Columnar Tungsten Films and Their Deuterium and Helium Ion Irradiation Effects
Fabrication of Nano-Columnar Tungsten Films and Their Deuterium and Helium Ion Irradiation Effects
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纳米柱状钨薄膜的制备及其氘、氦离子辐照效应
DOI：
10.1088/0256-307x/31/12/122801
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发表时间：
2014-12
影响因子：
3.5
通讯作者：
Zhu Kai-Gui
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Chen Zhe;Yu Jian-Gang;Feng Hong-Li;Zhu Kai-Gui
采用掠射角磁控溅射技术在多晶硅衬底上制备了纳米柱状钨薄膜。在5×10 - 4 Pa的基础压力下进行沉积工艺。之间的夹角
We fabricate nano-columnar tungsten (W) films on polycrystalline silicon substrates by magnetron sputtering using a grazing angle deposition technique. The deposition process is performed at a base pressure of 5×10−4 Pa. The intersection angle between the
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