Investigation of Contamination Removal from Finished EUVL Mask
Investigation of Contamination Removal from Finished EUVL Mask
复制标题
EUVL 口罩成品的污染物去除研究
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Kinoshita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Hamamoto;S.Takada;T.Watanabe;N.Sakaya;T.Shoki;M.Hosoya;H.Kinoshita
DOI：
10.1117/12.438367
发表时间：
2001
期刊：
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影响因子：
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作者：
H. Nii;H. Kinoshita;Takeo Watanabe;K. Hamamoto;H. Tsubakino;Y. Sugie
通讯作者：
Y. Sugie
通过干法和湿法工艺清洗 EUV 掩模
DOI：
10.1117/12.438368
发表时间：
2001
期刊：
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影响因子：
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作者：
H. Nii;H. Kinoshita;Takeo Watanabe;Y. Matsuo;Y. Sugie
通讯作者：
Y. Sugie
在新斯巴鲁使用极紫外线实验室工具获得的实验结果
影响因子：
1.5
作者：
H. Kinoshita;Takeo Watanabe
通讯作者：
Takeo Watanabe