Spin echo from erbium implanted silicon
Spin echo from erbium implanted silicon
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来自注入铒的硅的自旋回波
DOI：
10.1063/5.0046904
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发表时间：
2021
影响因子：
4
通讯作者：
Hughes M
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hughes M
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晶体硅中铒相关光学活性中心的微观结构。
影响因子：
8.6
作者：
N. Vinh;H. Przybylińska;Z. F. Krasil’nik;T. Gregorkiewicz
通讯作者：
T. Gregorkiewicz
Si中Er-杂质配合物的电子顺磁共振和光致发光研究
影响因子：
3.7
作者：
J. D. Carey;R. Barklie;J. Donegan;F. Priolo;G. Franzò;S. Coffa
通讯作者：
S. Coffa
影响因子：
16.6
作者：
Raha, Mouktik;Chen, Songtao;Thompson, Jeff D.
通讯作者：
Thompson, Jeff D.
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影响因子：
8.6
作者：
B. Car;L. Veissier;A. Louchet;J. Gouet;T. Chanelière
通讯作者：
T. Chanelière
影响因子：
4
作者：
J. D. Carey;J. Donegan;R. Barklie;F. Priolo;G. Franzò;S. Coffa
通讯作者：
S. Coffa