Local condensation of TMAH developer at photoresist/glass interface analyzed by using confocal laser scanning microscope (CLSM)
Local condensation of TMAH developer at photoresist/glass interface analyzed by using confocal laser scanning microscope (CLSM)
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使用共焦激光扫描显微镜 (CLSM) 分析光刻胶/玻璃界面处 TMAH 显影剂的局部凝结
DOI：
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Akira Kawai
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Hirom Takemi;Akira Kawai
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使用原子力显微镜分析去离子水/空气/ArF抗蚀剂系统的相互作用
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
J. Photopolymer Science and Technology 18・3
影响因子：
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作者：
Takayoshi Niiyama;Akira Kawai
通讯作者：
Akira Kawai
X 射线抗蚀剂的原位椭圆偏振测量
影响因子：
1.4
作者：
M. Sullivan;James W. Taylor;C. Babcock
通讯作者：
C. Babcock
利用QCM方法观察ArF抗蚀剂在显影过程中的溶胀行为（2）
影响因子：
0.8
作者：
A. Sekiguchi;H. Konishi;M. Isono
通讯作者：
M. Isono
使用原位薄膜折射率和厚度监测仪评估光刻胶溶解、膨胀和去除
影响因子：
3.9
作者：
Matthew Spuller;R. Perchuk;D. Hess
通讯作者：
D. Hess
QCM法研究ArF抗蚀剂显影过程中的溶胀作用
影响因子：
0.8
作者：
A. Sekiguchi
通讯作者：
A. Sekiguchi