Ultra-low stress high reflective film by dual-ion-beam sputtering deposition
Ultra-low stress high reflective film by dual-ion-beam sputtering deposition
复制标题
双离子束溅射沉积超低应力高反薄膜
DOI：
10.1117/1.oe.61.3.031203
复制
发表时间：
2021-11
影响因子：
1.3
通讯作者：
Lishuan Wang
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Shida Li;Xiao Yang;Huasong Liu;Jianzhong Su;Ziyang Li;Jiahuan He;Jinlin Bai;Yugang Jiang;Lishuan Wang
抽象。采用双离子溅射沉积方法，系统研究了辅助离子源工艺参数与SiO2薄膜应力的关系。用分光光度计和椭偏仪测量了SiO2薄膜的透过率。
Abstract. The correlation between the process parameters of auxiliary ion source and the SiO2 film stress was systematically studied using dual-ion-sputtering deposition. Spectrophotometer and ellipsometer were used to measure the SiO2 film’s transmittanc
登录
查看更多内容
影响因子：
1.9
作者：
A. Davenport;E. Randel;C. Menoni
通讯作者：
A. Davenport;E. Randel;C. Menoni
影响因子：
9.5
作者：
Susann Schmidt;T. Hänninen;Cecilia Goyenola;Jonas Wissting;J. Jensen;L. Hultman;N. Göbbels;M. Tobler;H. Högberg
通讯作者：
Susann Schmidt;T. Hänninen;Cecilia Goyenola;Jonas Wissting;J. Jensen;L. Hultman;N. Göbbels;M. Tobler;H. Högberg
影响因子：
1.9
作者：
Cheng-chung Lee;C. Tien;J. Hsu
通讯作者：
Cheng-chung Lee;C. Tien;J. Hsu
影响因子：
2.1
作者：
S. Yoon;Sung-Soo Kang;W. Jung;Sang‐Woo Kim;D. Yoon
通讯作者：
S. Yoon;Sung-Soo Kang;W. Jung;Sang‐Woo Kim;D. Yoon
影响因子：
2.1
作者：
C. Bundesmann;Inga‐Maria Eichentopf;S. Mändl;H. Neumann
通讯作者：
C. Bundesmann;Inga‐Maria Eichentopf;S. Mändl;H. Neumann