Nano stenciling through a cm^2 -wide silicon membrane
Nano stenciling through a cm^2 -wide silicon membrane
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通过 cm^2 宽的硅膜进行纳米喷印
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Beomjoon Kim
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Vincent Blech;Takama Nobuyuki;Beomjoon Kim
基于通过卷对卷连续沉积工艺在金属带上外延生长的类单晶硅的高性能柔性薄膜晶体管。
影响因子：
9.5
作者：
Ying Gao;M. Asadirad;Yao Yao;P. Dutta;E. Galstyan;Shahab Shervin;K. Lee;S. Pouladi;Sicong Sun;Yongkuan Li;M. Rathi;J. Ryou;V. Selvamanickam
通讯作者：
V. Selvamanickam
“硅千层酥”：一步完成从硅片到多层晶体薄膜的制作
影响因子：
4
作者：
David Hernández;T. Trifonov;M. Garín;R. Alcubilla
通讯作者：
R. Alcubilla
影响因子：
17.1
作者：
Chiang, Chia-Han;Won, Sang Min;Viventi, Jonathan
通讯作者：
Viventi, Jonathan