Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing

Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing
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等离子辅助抛光中抛光压力和滑动速度对单晶金刚石材料去除机理的影响

DOI:
10.1016/j.diamond.2022.108899
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发表时间:
2022
影响因子:
4.1
通讯作者:
Yamamura Kazuya
Yamamura Kazuya
中科院分区:
材料科学2区
文献类型:
--
作者:
Liu Nian;Sugimoto Kentaro;Yoshitaka Naoya;Yamada Hideaki;Sun Rongyan;Kawai Kentaro;Arima Kenta;Yamamura Kazuya

文献摘要

参考文献

被引文献

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