Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing
Effects of polishing pressure and sliding speed on the material removal mechanism of single crystal diamond in plasma-assisted polishing
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等离子辅助抛光中抛光压力和滑动速度对单晶金刚石材料去除机理的影响
DOI:
10.1016/j.diamond.2022.108899
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发表时间:
2022
影响因子:
4.1
通讯作者:
Yamamura Kazuya
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Liu Nian;Sugimoto Kentaro;Yoshitaka Naoya;Yamada Hideaki;Sun Rongyan;Kawai Kentaro;Arima Kenta;Yamamura Kazuya
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DOI:
10.1299/jsmelem.2011.6._3265-1_
发表时间:
2011
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
T. Iizuka;Y. Murata;M. Yamaguchi;S. Ueno;N. Takatsuji;Noboru Moita
通讯作者:
Noboru Moita
影响因子:
10.9
作者:
S. Mandal;E. Thomas;L. Ginés;D. Morgan;J. Green;E. Brousseau;O. Williams
通讯作者:
S. Mandal;E. Thomas;L. Ginés;D. Morgan;J. Green;E. Brousseau;O. Williams
影响因子:
3.1
作者:
D. Kogut;D. Aussems;N. Ning;K. Bystrov;A. Gicquel;J. Achard;O. Brinza;Y. Addab;C. Martin;C. Pardanaud;S. Khrapak;G. Cartry
通讯作者:
G. Cartry
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
--
作者:
T. Kamino;T. Yaguchi;T. Hashimoto;T. Ohnishi;K. Umemura
通讯作者:
K. Umemura
影响因子:
3.2
作者:
J. Weima;R. Job;W. Fahrner;G. Kosaca;N. Muller;T. Fries
通讯作者:
T. Fries