Reaction at the interface between Si melt and a Ba-doped silica crucible

Reaction at the interface between Si melt and a Ba-doped silica crucible
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Si熔体与Ba掺杂石英坩埚之间的界面反应

DOI:
--
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发表时间:
2005
期刊:
Journal of Crystal Growth 277
影响因子:
--
通讯作者:
S.Uda
S.Uda
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
X.M.Huang;S.J.Koh;K.H.Wu;M.W.Chen;T.Hoshikawa;K.Hoshikawa;S.Uda

文献摘要

参考文献

被引文献

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