Reaction at the interface between Si melt and a Ba-doped silica crucible
Reaction at the interface between Si melt and a Ba-doped silica crucible
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Si熔体与Ba掺杂石英坩埚之间的界面反应
DOI:
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发表时间:
2005
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
S.Uda
中科院分区:
文献类型:
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作者:
X.M.Huang;S.J.Koh;K.H.Wu;M.W.Chen;T.Hoshikawa;K.Hoshikawa;S.Uda
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DOI:
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发表时间:
1992
期刊:
影响因子:
--
作者:
Zhensheng Liu;T. Carlberg
通讯作者:
T. Carlberg
DOI:
10.1143/jjap.19.1573
发表时间:
1980
期刊:
影响因子:
--
作者:
H. Hirata;K. Hoshikawa
通讯作者:
K. Hoshikawa
影响因子:
2.3
作者:
E. Tomzig;W. Ammon;E. Dornberger;U. Lambert;W. Zulehner
通讯作者:
W. Zulehner
影响因子:
3.9
作者:
H. Imai;H. Hirashima
通讯作者:
H. Hirashima
影响因子:
3.9
作者:
U. Ekhult;T. Carlberg
通讯作者:
T. Carlberg