Sputtering Pressure Dependent Photocatalytic Properties of TiO_2 Thin Films
Sputtering Pressure Dependent Photocatalytic Properties of TiO_2 Thin Films
复制标题
TiO_2薄膜的溅射压力依赖性光催化性能
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
A.Fuiishima
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T.Takahashi;K.Prabakar;T.Nezuka;T.Yamazaki;T.Nakashima;Y.Kubota;A.Fuiishima
登录
查看更多内容
沉积条件对射频法制备的二氧化钛性能的影响
影响因子：
4.1
作者：
P. Barquinha;L. Pereira;H. Águas;E. Fortunato;R. Martins
通讯作者：
R. Martins
室温直流溅射沉积的掺锡氧化铟薄膜的电学和结构性能
影响因子：
1.5
作者：
P. Song;Y. Shigesato;M. Kamei;I. Yasui
通讯作者：
I. Yasui
铂上甲醇吸附物的鉴定：原位 FT-IR 研究
影响因子：
4.5
作者：
T. Iwasita;F. Nart
通讯作者：
F. Nart
影响因子：
64.8
作者：
FUJISHIMA, A;HONDA, K
通讯作者：
HONDA, K
射频磁控溅射法制备金红石型TiO$_{f 2}$薄膜
DOI：
--
发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
--
作者：
K. Okimura;A. Shibata;Naohiro Maeda;K. Tachibana;Y. Noguchi;Kouzou Tsuchida
通讯作者：
Kouzou Tsuchida