micro-Photoreflectance spectroscopy for microscale monitoring of plasma-induced physical damage
micro-Photoreflectance spectroscopy for microscale monitoring of plasma-induced physical damage
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用于微尺度监测等离子体引起的物理损伤的微光反射光谱
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K. Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
A. Matsuda;Y. Nakakubo;Y. Takao;K. Eriguchi;K. Ono
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暴露的薄硅表面层中等离子体诱发缺陷产生过程的定量表征
影响因子：
1.5
作者：
K. Eriguchi;A. Ohno;D. Hamada;M. Kamei;H. Fukumoto;K. Ono
通讯作者：
K. Ono
DOI：
10.1063/1.3569764
发表时间：
2011
期刊：
The Review of scientific instruments
影响因子：
--
作者：
H. Chouaib;Martin Edward Murtagh;Patrick Vincent Kelly
通讯作者：
Patrick Vincent Kelly
Ar 离子蚀刻和 SiCl4 反应离子蚀刻硅的光反射表征 (100)
影响因子：
1.8
作者：
M. Murtagh;S. Lynch;P. Kelly;S. Hildebrandt;P. A. F. Herbert;C. Jeynes;G. Crean;Dr Mr Lynch;Dr Kelly;Mr Hildebrandt;Herbert Dr;Crean
通讯作者：
Crean
硅表面应力光反射无损非接触监测技术
影响因子：
1.5
作者：
M. Sohgawa;M. Agata;T. Kanashima;K. Yamashita;K. Eriguchi;A. Fujimoto;M. Okuyama
通讯作者：
M. Okuyama
影响因子：
3.2
作者：
H. Wada;M. Agata;K. Eriguchi;A. Fujimoto;T. Kanashima;M. Okuyama
通讯作者：
M. Okuyama