Fabrication of Einzel lens array with one-mask RIE process for electron micro-optics
Fabrication of Einzel lens array with one-mask RIE process for electron micro-optics
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用于电子微光学的单掩模 RIE 工艺制造 Einzel 透镜阵列
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Eiichi Tomono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Moteki;N.;Y. Kondo;N. Takegawa;S. Nakamura;Eiichi Tomono
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影响因子：
1.4
作者：
P. N. Minh;T. Ono;N. Sato;H. Mimura;M. Esashi
通讯作者：
P. N. Minh;T. Ono;N. Sato;H. Mimura;M. Esashi
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DOI：
10.1299/jsmemecjo.2003.6.0_315
发表时间：
2003
期刊：
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影响因子：
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作者：
P. Kang;Shuji Tanaka;M. Esashi
通讯作者：
M. Esashi
电泳预处理和热丝化学气相沉积制备金刚石肖特基发射极阵列
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
Diamond and related materials 16
影响因子：
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M. Esashi
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通讯作者：
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通讯作者：
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