Indirect and direct optical transitions in In0.5Ga0.5As/GaP quantum dots

Indirect and direct optical transitions in In0.5Ga0.5As/GaP quantum dots
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In0 5Ga0 5As/GaP 量子点中的间接和直接光学跃迁

DOI:
10.1063/1.4870087
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发表时间:
2014
影响因子:
4
通讯作者:
D. Bimberg
D. Bimberg
中科院分区:
物理与天体物理2区
文献类型:
--
作者:
G. Stracke;E. M. Sala;S. Selve;T. Niermann;A. Schliwa;A. Strittmatter;D. Bimberg

文献摘要

参考文献

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我们研究了在GaP(001)表面上自组装的In{sub0.5}Ga{sub0.5}As量子点,将生长参数与结构、光学和电学性质联系起来。量子点密度从5.0×10{sup 7}cm{sup−2}到1.5×10{sup 11}cm{sup−2}。在In{sub0.5}Ga{sub0.5}As沉积后的生长中断过程中使用成熟过程来改变量子点的尺寸。这项工作的主要焦点在于光学跃迁的性质,通过不同的盖层改善量子点的应变消除,可以从低效率的间接跃迁切换到高效的直接跃迁。
We present a study of self-assembled In{sub 0.5}Ga{sub 0.5}As quantum dots on GaP(001) surfaces linking growth parameters with structural, optical, and electronic properties. Quantum dot densities from 5.0 × 10{sup 7} cm{sup −2} to 1.5 × 10{sup 11} cm{sup −2} are achieved. A ripening process during a growth interruption after In{sub 0.5}Ga{sub 0.5}As deposition is used to vary the quantum dot size. The main focus of this work lies on the nature of optical transitions which can be switched from low-efficient indirect to high-efficient direct ones through improved strain relief of the quantum dots by different cap layers.
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